2020年度

卒業論文

　Ni/MoS2接合の接触抵抗の温度変化(井上)

　Ag/MoS2接合におけるサンプル作製と電気的総合特性の評価(今武)

　二次元半導体 MoTe2を使った FET 構造における接触抵抗の評価（岩下）

　クーロンブロッケード温度計の作製とその評価（松本）

2019年度

修士論文

　電気二重層トランジスタ構造を利用した金属電極と酸化亜鉛の接合における超伝導状態の探索(坂本)

卒業論文

　二硫化モリブデンとチタンのヘテロ構造における磁性に対するアニール効果の研究(安齋)

　Ti/MoS2 接合における界面状態と２種類の障壁（浜本）

2018年度

修士論文

　金属/MoS2接合における界面超伝導（相川）

卒業論文

　極低温におけるシリコンウェハーの接着・接合方法の確立（島崎）

　シリコンマイクロ流路による希釈冷凍機の開発（鈴木）

　超伝導電子冷却デバイスのためのNb,NbN薄膜の作製（萩元）

　超伝導デバイス作製のためのNb、SiO₂薄膜作製と評価（松尾）

　超伝導デバイス作製のためのNb薄膜、NbN薄膜の作製と膜質評価（横山）

2017年度

修士論文

Nb/ZnO電気二重層トランジスタ構造における電極・チャネル界面制御と超伝導近接効果（成田）

卒業論文

マイクロ流路式希釈冷凍機の開発（笠倉）

超伝導電子冷却法を用いたデバイスの開発と評価（東海林）

MoS2電気二重層チャネルと超伝導電極との接合における接触抵抗の評価（田中）

電気二重層トランジスタ構造によるクーロンブッケド温度計の開発と評価（田邊）

2016年度

卒業論文

Al/MoS2電気二重層トランジスタ構造 / Al接合における超伝導電流　(相川）

反応性スパッタリングによるNbN超伝導薄膜の作製と評価（伊藤、鈴木）

Nb電極とZnOチャネルによる電気二重層トランジスタ構造における接触抵抗のゲート依存性（田嶋）

酸化亜鉛薄膜とニオブ薄膜による電気二重層トランジスタ構造の作製と評価（吉川）

2015年度

卒業論文　

Nb薄膜及びNbN薄膜の成膜実験（油井）

電気二重層と超伝導体との接合（成田）

タングステン超伝導薄膜の作製と評価 (廣田）